Au/SiO-2/α-Si:H中Au与α-Si:H的相互作用研究 |
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作者姓名: | 王雪文 张志勇 |
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作者单位: | 1. 西北大学电子科学系,西安,710069 2. 西北大学电子科学系,西安,710069;西安理工大学自控系,西安,710048 |
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摘 要: | 近年来对Au/α-Si:H系统分形及晶化方面的研究很多[1,2],它们的共同点是双层膜蒸镀都在真空中一次完成,中间不离开真空室,硅分形易于形成且效果非常显著.
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关 键 词: | 半导体 氢化非晶硅 金 分形 薄膜 晶化 |
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