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13.9 nm Laminar分束光栅的研制
引用本文:谭鑫,刘颖,徐向东,洪义麟,付绍军.13.9 nm Laminar分束光栅的研制[J].光学精密工程,2009,17(1).
作者姓名:谭鑫  刘颖  徐向东  洪义麟  付绍军
作者单位:1. 中国科学技术大学,国家同步辐射实验室,安徽,合肥,230029;中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,吉林,长春,130033
2. 中国科学技术大学,国家同步辐射实验室,安徽,合肥,230029
基金项目:国家自然科学基金-中国工程物理研究院联合基金(NSAF基金),国家高技术研究发展计划(863计划),中国科学技术大学青年基金
摘    要:利用全息-离子束刻蚀工艺制作了工作波长为13.9 nm的Laminar分束光栅.光栅的线密度为1 000 lp/mm,槽深13 nm,占宽比0.43,Au膜厚度为40 nm左右;当工作波长为13.9 nm,入射角为81.2°时,其0级与-1级衍射光衍射效率乘积的最大值为8.1%,同时0级与-1级衍射效率亦接近,约为27%和30%.实验结果表明,研制的Laminar光栅可用于13.9 nm激光的分束,能够获得>7%的分束效率.

关 键 词:软X射线  分束光栅  衍射光栅  干涉仪

13.9 nm Laminar grating as beam splitter
TAN Xin,LIU Ying,XU Xiang-dong,HONG Yi-lin,FU Shao-jun.13.9 nm Laminar grating as beam splitter[J].Optics and Precision Engineering,2009,17(1).
Authors:TAN Xin  LIU Ying  XU Xiang-dong  HONG Yi-lin  FU Shao-jun
Abstract:
Keywords:
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