基于电泳沉积Al及其晶界扩散优化的烧结NdFeB磁体的微观结构和磁性能

采用电泳沉积(EPD)法在烧结NdFeB磁体表面沉积Al膜,研究了不同电泳电压和沉积时间对沉积Al膜的影响,在此基础之上,探究了不同晶界扩散工艺对磁体微观组织和磁性能的影响。结果表明:最佳的电泳工艺为90 V/30 s,此时膜层与磁体结合良好,且厚度均匀适中。晶界扩散工艺为500℃/1 h时,磁体获得了最佳的综合磁性能,其矫顽力、剩磁和最大磁能积为953 kA/m、1.41 T和342 kJ/m~3,分别提升了30.2%、0.7%和11.4%。微观结构和成分分析发现,晶界扩散后,晶间形成了更为平直光滑的富稀土相薄层,有助于降低退磁场和增强磁隔离效应,最终导致矫顽力的提高。