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AlGaN/GaN HEMT击穿特性与受主陷阱相关性研究
引用本文:严地,罗谦,卢盛辉,靳翀,罗大为,周伟,杨谟华.AlGaN/GaN HEMT击穿特性与受主陷阱相关性研究[J].半导体技术,2007,32(3):226-229.
作者姓名:严地  罗谦  卢盛辉  靳翀  罗大为  周伟  杨谟华
作者单位:电子科技大学微电子学与固体电子学学院,成都610054
摘    要:通过计算沟道电场的分布,研究了受主陷阱对AlGaN/GaN HEMT器件击穿特性的影响.研究发现,有受主陷阱的条件下,漏端出现电场峰值,栅端电场峰值被大幅度削减.当Vg=0 V,Vd=60 V,受主陷阱浓度NA=1×10(17)cm-3时,栅端电场峰值与不加受主陷阱时相比可下降到56%.受陷阱电荷影响,当击穿电压大于某个电压时,漏端电场峰值超过栅端电场峰值,此时,击穿发生在漏端.该仿真结果修正了HEMT击穿总发生在栅端边缘处的传统看法.

关 键 词:铝镓氮  氮化镓  高电子迁移率晶体管  电场  受主陷阱
文章编号:1003-353X(2007)03-226-04
修稿时间:2006-09-14

Investigation on the Breakdown Character of AlGaN/GaN HEMT with Acceptor Trap
YAN Di,LUO Qian,LU Sheng-hui,JIN Chong,LUO Da-wei,ZHOU Wei,YANG Mo-hua.Investigation on the Breakdown Character of AlGaN/GaN HEMT with Acceptor Trap[J].Semiconductor Technology,2007,32(3):226-229.
Authors:YAN Di  LUO Qian  LU Sheng-hui  JIN Chong  LUO Da-wei  ZHOU Wei  YANG Mo-hua
Affiliation:School of Microelectrics and Solid-State Electronics, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu 610054, China
Abstract:
Keywords:AlGaN  GaN  HEMT  electrical field  acceptor trap
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