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| 纳米硅薄膜界面结构的微观特征 | |
| 引用本文： | 何宇亮,褚一鸣,王中怀,刘湘娜,白春礼.纳米硅薄膜界面结构的微观特征[J].半导体学报,1994,15(1):71-74. |
| 作者姓名： | 何宇亮 褚一鸣 王中怀 刘湘娜 白春礼 |
| 作者单位： | 北京航空航天大学非晶态物理研究室，中国科学院北京电子显微镜开放实验室，中国科学院化学研究所ＳＴＭ实验室，南京大学物理系及固体微结构实验室 |
| 摘 要： | 对使用等离子体增强化学汽相沉积法（ＰＥＣＶＤ）制备的纳米硅薄膜（ｎｃ－Ｓｉ：Ｈ），使用ＨＲＥＭ及ＳＴＭ技术观测了其显微结构，给出大量的界面结构图象．首次获得有关晶粒及界面区中原子的分布情况．使我们认识到ｎｃ－Ｓｉ：Ｈ膜中界面区内的硅原子仍然是具有短程有序性并不是完全无序的． |
| 关 键 词： | 硅薄膜 界面结构 特征 纳米硅薄膜 |
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