| 射频磁控溅射制备HfMoNbZrNx薄膜的组织和性能 |
| |
| 引用本文： | 谢明强,施杰,李博海,胡恒宁,汪辉,巫兴胜,张丽,苏齐家,杜昊.射频磁控溅射制备HfMoNbZrNx薄膜的组织和性能[J].工具技术,2024(1):3-8. |
| |
| 作者姓名： | 谢明强 施杰 李博海 胡恒宁 汪辉 巫兴胜 张丽 苏齐家 杜昊 |
| |
| 作者单位： | 1. 成都工具研究所有限公司;2. 贵州大学机械工程学院;3. 中国人民解放军93147部队;4. 中国船舶集团海装风电股份有限公司;5. 贵州大学公共大数据国家重点实验室 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金(52165021,51805102)； |
| |
| 摘 要： | 利用射频磁控溅射技术分别在单面抛光Si(001),Al2O3(0001)和硬质合金(WC-8 wt.%Co)基底表面沉积HfMoNbZrNx薄膜，研究不同氮气流量RN对HfMoNbZrNx薄膜的组织和性能影响。结果表明，HfMoNbZr薄膜倾向于形成非晶态，随着RN的增加，HfMoNbZrN高熵合金氮化薄膜转变为面心立方(FCC)结构并且沉积速率下降；当RN=10%时，薄膜硬度和弹性模量最大，分别为21.8GPa±0.88GPa和293.5GPa±9.56GPa;所有薄膜均发生磨粒磨损，相较于多元合金薄膜，氮化物薄膜的磨损率下降了一个数量级，薄膜耐磨性显著提高。
|
| 关 键 词： | 射频磁控溅射 HfMoNbZrNx薄膜 微观结构 硬度 摩擦学 |
|
|
