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纳米晶软磁薄膜Fe-Ti-N的结构、磁学性能和热稳定性研究
引用本文:李丹,顾有松,常香荣,李福燊,乔利杰,田中卓,方光旦,宋庆山.纳米晶软磁薄膜Fe-Ti-N的结构、磁学性能和热稳定性研究[J].金属学报,2003,39(2):204-208.
作者姓名:李丹  顾有松  常香荣  李福燊  乔利杰  田中卓  方光旦  宋庆山
作者单位:1. 北京科技大学材料物理系,北京,100083
2. 中国科学院计算技术研究所,北京,100080
基金项目:国家自然科学基金资助项目19890310
摘    要:在高溅射功率900W下用RF磁控溅射方法制备了厚为630-780nm的e-Ti-N薄膜。结果表明:当膜成分(原子分数,%,下同)在Fe-3.9Ti-8.8N和Fe-3.3Ti-13.5N范围内,薄膜由α′和Ti2N沉淀组成,磁化强度4πMs超过纯铁,最高可达2.38T;而矫顽力Hc下降为89A/m,可以满足针对1.55Gb/cm^2高存储密度的GMR/感应式复合读写磁头中写入磁头的需要,N原子进入α-Fe使α′具有高饱和磁化强度;Ti的加入,阻止α′→α γ′的分解,稳定了强铁磁性相α′,是Fe-Ti-N具有高饱和磁化强度的原因。由于由晶粒度引起的对Hc的影响程度Hc^D与晶粒度D有以下关系:Hc^D∝D^6,晶粒度控制非常重要。N原子进入α-Fe点阵的八面体间隙,引起极大的畸变,使晶粒碎化。提高溅射功率也使晶粒度下降。两者共同作用,能使晶粒度下降到约14nm,使Hc下降。晶界是择优沉淀地点,在α′晶界上沉淀Ti2N能起钉扎作用,阻止晶界迁移,使纳米晶α′不能长大。薄膜的结构和Hc的稳定温度不低于520℃。

关 键 词:结构  磁学性能  热稳定性  Fe-Ti-N纳米软磁薄膜  磁场热处理  高饱和磁化强度
文章编号:0412-1961(2003)02-0204-05
收稿时间:2002-04-22
修稿时间:2002年4月22日

THE STRUCTURE, PROPERTIES AND THERMAL STABILITY OF THE NANOCRYSTALLINE Fe-Ti-N SOFT MAGNETIC FILMS
LI Dan,GU Yousong,CHANG Xiangrong,LI Fushen,QIAO Lijie,TIAN Zhongzhuo,FANG Guangdan,SONG Qingshan.THE STRUCTURE, PROPERTIES AND THERMAL STABILITY OF THE NANOCRYSTALLINE Fe-Ti-N SOFT MAGNETIC FILMS[J].Acta Metallurgica Sinica,2003,39(2):204-208.
Authors:LI Dan  GU Yousong  CHANG Xiangrong  LI Fushen  QIAO Lijie  TIAN Zhongzhuo  FANG Guangdan  SONG Qingshan
Affiliation:Department of Materials Physics, University of Science & Technology Beijing, Beijing 100083
Abstract:
Keywords:Fe-Ti-N  nano-soft magnetic film  magnetic field heating treatment  high satura- tion magnetigation
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