| 聚甲基硅烷稳定性的研究 |
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| 引用本文： | 邢欣,李效东,郭爱青,李祖发,余煜玺,王军. 聚甲基硅烷稳定性的研究[J]. 硅酸盐学报, 2004, 32(4): 402-406 |
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| 作者姓名： | 邢欣 李效东 郭爱青 李祖发 余煜玺 王军 |
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| 作者单位： | 国防科技大学,陶瓷纤维及其复合材料重点实验室,长沙,410073;湖南师范大学化学系,长沙,410081 |
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| 基金项目： | 国防预研基金(01413120CCC)资助项目。~~ |
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| 摘 要： | 聚甲基硅烷对氧气敏感，甚至能在空气中自燃。在较高的温度和湿度下，其Si—Si键和Si—H键不稳定，很容易被氧化成Si—O—Sir由于含有大量的Si—H键，120℃以上它会发生明显的脱氢交联反应，并且随着温度的升高，脱氢交联的速度明显增大。由于聚甲基硅烷热分解过程中低分子量组分的逸出，其陶瓷产率并不高，热分解产物为β-SiC，其Si与C的摩尔比为1．23，并含有少量氧。
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| 关 键 词： | 聚甲基硅烷 氧化反应 脱氢交联 热分解 |
| 文章编号： | 0454-5468(2004)04-0402-05 |
| 修稿时间： | 2003-09-03 |
STUDY ON STABILITY OF POLYMETHYLSILANE |
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| XING Xin. STUDY ON STABILITY OF POLYMETHYLSILANE[J]. Journal of The Chinese Ceramic Society, 2004, 32(4): 402-406 |
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| Authors: | XING Xin |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | polymethylsilane oxidation dehydrogenation crosslinking pyrolysis |
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