| Ti－N扩散障碍膜的组织结构及高温热稳定性 |
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| 引用本文： | 王家军,孙榆芳,叶锐曾.Ti－N扩散障碍膜的组织结构及高温热稳定性[J].中国腐蚀与防护学报,1994(3). |
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| 作者姓名： | 王家军 孙榆芳 叶锐曾 |
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| 作者单位： | 清华大学材料系，北京有色金属研究总院表面技术中心，北京科技大学材料系 |
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| 摘 要： | 研究了多弧离子镀Ｔｉ－Ｎ扩散障碍膜的表面形貌、组织结构及高温热稳定性．发现Ｔｉ－Ｎ膜表面存在大量颗粒物；颗粒物对Ｔｉ－Ｎ膜外磁控溅射涂覆的ＭＣｒＡＩＸ包覆型涂层的组织形态及性能有较大影响．Ｘ射线分析表明：Ｔｉ－Ｎ镀膜由δ－ＴｉＮ、ε－ＴｉＤＮ、α－Ｔｉ等多相组成；δ－ＴｉＮ呈明显｛１１１｝择优取向，但经扩散退火处理后，择优取向消失．１０００℃热时效试验结果表明Ｔｉ－Ｎ膜的高温热稳定性良好，与基体及相邻ＭＣｒＡＩＸ镀层间不发生显著互扩散，因而可作为扩散障碍层用于抑止或减缓合金元素在ＧＨ２２０基体及ＭＣｒＡｌＸ涂层间的互扩散．
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| 关 键 词： | Ti－N镀膜，择优取向，热稳定性 |
THE STRUCTURE AND HIGH TEMPERATURE STABILITY OF Ti-N FILM AS A DIFFUSION BARRIER |
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| Wang Jiajun.THE STRUCTURE AND HIGH TEMPERATURE STABILITY OF Ti-N FILM AS A DIFFUSION BARRIER[J].Journal of Chinese Society For Corrosion and Protection,1994(3). |
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| Authors: | Wang Jiajun |
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| Affiliation: | Wang Jiajun(Tsinghua University)Sun Yufang(Central Non-Reffous Research Institute)Ye Ruizeng(University of Science and Technology Beijing) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Multi-arc plated Ti-N film Preferred orientation High temperature stability |
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