首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

Cu基Al掺杂ZnO多层薄膜的生长和性能
引用本文:王钰萍,叶春丽,吕建国,丛宏林,江忠永,叶志镇.Cu基Al掺杂ZnO多层薄膜的生长和性能[J].材料科学与工程学报,2012,30(5).
作者姓名:王钰萍  叶春丽  吕建国  丛宏林  江忠永  叶志镇
作者单位:1. 浙江大学硅材料国家重点实验室,材料科学与工程学系,浙江杭州310027
2. 杭州士兰明芯科技有限公司。浙江杭州310018
基金项目:国家自然科学基金资助项目,浙江省LED照明新技术创新团队,中央高校基本科研业务费科研发展专项资助项目
摘    要:本文采用直流磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了AZO/Cu、Cu/AZO和AZO/Cu/AZO三种复合结构多层膜,研究了生长温度对多层膜特性的影响,发现AZO/Cu双层薄膜具有最优的光电性能,其最佳生长温度为100~150℃。文中进一步考察了生长温度对AZO/Cu双层薄膜结构性能和表面形貌的影响,结果表明:合适的生长温度有利于改善AZO/Cu双层薄膜的晶体质量,进而提高其光电性能;150℃下沉积的薄膜具有最佳品质因子1.11×10^-2Ω^-1,此时方块电阻为8.99Ω/sq,可见光透过率为80%,近红外反射率约70%。本文在较低温度下制备的AZO/Cu双层膜具有较优的透明导电性和良好的近红外反射性,可以广泛应用于镀膜玻璃、太阳能电池、平板显示器等光电领域。

关 键 词:AZO  多层结构薄膜  光电性能  生长温度

Growth and Properties of Cu-based Al-doped ZnO Multilayer Films
Abstract:
Keywords:AZO  multiplayer films  photoelectric properties  growth temperature
本文献已被 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号