| 用MOCVD方法制备TIO2薄膜：工艺及进展 |
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| 引用本文： | 孙一军 张志峰. 用MOCVD方法制备TIO2薄膜：工艺及进展[J]. 硅酸盐通报, 1997, 16(2): 37-40 |
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| 作者姓名： | 孙一军 张志峰 |
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| 作者单位： | 西安交通大学精细功能电子材料与器件国家专业实验室 |
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| 摘 要： | 本文概述了用金属有机物化学气相沉积（ＭＯＣＶＤ）的方法制备了ＴＩＯ２薄膜的原理工艺过程用工艺特点，并指出了最新研研进展和存在的问题以今后及发展方向。
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| 关 键 词： | MOCVD 二氧化钛 薄膜 制备工艺 半导体薄膜 |
Fabvrication of Ti 2 Thin Films by MOCVD:Process and Progress |
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| Sun Yijun Zhang Zhifeng Zhang Liangying Yao Xi. Fabvrication of Ti 2 Thin Films by MOCVD:Process and Progress[J]. Bulletin of the Chinese Ceramic Society, 1997, 16(2): 37-40 |
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| Authors: | Sun Yijun Zhang Zhifeng Zhang Liangying Yao Xi |
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| Affiliation: | Xi'an JiaoTong University |
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| Abstract: | In this paper, process, characteristics and advanced research resultsof fabrication of TiO 2 thin films by MOCVD are reviewed, and some proposal is presented. |
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| Keywords: | MOCVD TiO 2 thin films |
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