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高纯钨中杂质元素的化学光谱法测定
引用本文:余国华,陈觉.高纯钨中杂质元素的化学光谱法测定[J].稀有金属材料与工程,1994(5).
作者姓名:余国华  陈觉
作者单位:西北有色金属研究院
摘    要:采用以一定比例的HNO3和HCl为介质,使钨沉淀成钨酸与杂质分离,然后用碳粉吸附杂质再进行光谱测定的方法,对高纯钨(包括金属钨、三氧化钨、钨酸、钨酸铵)中15个杂质元素Fe、Ni、Cu、Mn、Al、V、Cr、Co、Ca、Ms、Pb、Sn、Bi、Cd、Be进行了测定,取得了理想的结果,测定下限可达(0.1~0.5)×10(-6)。

关 键 词:高纯钨,化学光谱法测定,杂质

Methods for the Determination of the Trace Impurities in High Purity Tungsten by Chemical Spectrometry
Yu Guohu,Chen Jue.Methods for the Determination of the Trace Impurities in High Purity Tungsten by Chemical Spectrometry[J].Rare Metal Materials and Engineering,1994(5).
Authors:Yu Guohu  Chen Jue
Abstract:
Keywords:igh purity tungsten the chemical spectrometry determination  
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