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| 溅射靶材的应用及发展前景 | |
| 引用本文： | 迟伟光,张凤戈,王铁军,熊宁,穆健刚,唐培新,易操.溅射靶材的应用及发展前景[J].新材料产业,2010(11):6-11. |
| 作者姓名： | 迟伟光 张凤戈 王铁军 熊宁 穆健刚 唐培新 易操 |
| 作者单位： | 安泰科技股份有限公司难熔材料分公司 |
| 摘 要： | <正>溅射靶材是指通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜设备在适当工艺条件下溅射沉积在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。溅射靶材广泛应用于装饰、工模具、玻璃、电子器件、半导体、磁记录、平面显示、太阳能电池等众多领域,不同领域需要的靶 |
| 关 键 词： | 溅射靶材 发展前景 应用 多弧离子镀 太阳能电池 磁控溅射 功能薄膜 溅射沉积 |
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