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柔性衬底ITO透明导电薄膜的光电性能研究
引用本文:孙裔,刁训刚,杨盟,武哲,舒远杰.柔性衬底ITO透明导电薄膜的光电性能研究[J].稀有金属材料与工程,2007,36(1):86-90.
作者姓名:孙裔  刁训刚  杨盟  武哲  舒远杰
作者单位:1. 北京航空航天大学,北京,100083
2. 中国工程物理研究院,化工材料研究所,四川,绵阳,621900
基金项目:国家自然科学基金;中国工程物理研究院"双百"人才基金
摘    要:利用直流磁控溅射方法在柔性聚酯薄膜衬底上制备了氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜,采用X射线衍射、紫外.可见分光光度计、四探针电阻测量仪等测试手段对薄膜样品进行表征,研究了氧含量、薄膜厚度、村底负偏压对ITO薄膜的晶体结构和光电性能的影响,优化了柔性衬底ITO薄膜的制备工艺条件。制得样品的最佳可见光平均透过率为85.6%,方块电阻为6Ω/口。

关 键 词:直流磁控溅射  柔性衬底  ITO透明导电薄膜
文章编号:1002-185X(2007)01-0086-05
修稿时间:2006-01-11

Study on Electrical and Optical Properties of Flexible Transparent Conductive ITO Film
Sun Yi,Diao Xungang,Yang Meng,Wu Zhe,Shu Yuanjie.Study on Electrical and Optical Properties of Flexible Transparent Conductive ITO Film[J].Rare Metal Materials and Engineering,2007,36(1):86-90.
Authors:Sun Yi  Diao Xungang  Yang Meng  Wu Zhe  Shu Yuanjie
Affiliation:1. Beijing University of Aeronautics and Astronautics, Beijing 100083, China;2. Institute of Chemical Materials, CAEP, Mianyang, 621900, China
Abstract:
Keywords:DC magnetron sputtering  flexible substrate  ITO transparent conductive thin film
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