| 氮氩流量比对玻璃基TiN薄膜的结构和硬度的影响 |
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| 引用本文： | 顾宝宝,赵青南,刘旭,罗乐平,丛芳玲,赵修建.氮氩流量比对玻璃基TiN薄膜的结构和硬度的影响[J].硅酸盐通报,2016,35(12):4076-4081. |
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| 作者姓名： | 顾宝宝 赵青南 刘旭 罗乐平 丛芳玲 赵修建 |
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| 作者单位： | 武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室,武汉,430070;武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室,武汉430070;江苏秀强玻璃工艺股份有限公司,宿迁223800 |
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| 基金项目： | 湖北省重大科技创新计划项目(2013AAA005) |
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| 摘 要： | 采用直流磁控溅射镀膜工艺,在不同的氮氩流量比条件下,制备了玻璃基TiN薄膜.通过X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(SEM、EDS)、纳米显微硬度仪,研究了TiN薄膜的组织结构、物相组成、表面形貌、元素成份、维氏硬度,分析了氮氩流量比对TiN薄膜结晶取向、硬度的影响机理.结果表明,在低的氮氩流量比条件下,TiN薄膜以(111)晶面择优取向;随着氮氩流量比增加,择优取向由(111)晶面向(200)晶面过渡;氮氩流量比为1∶2时薄膜以(200)晶面择优取向;继续增加氮氩流量比(1∶2 ～2∶1),TiN薄膜衍射峰强度降低,晶粒尺寸减小;当氮氩流量比增加到2∶1时,薄膜开始呈现非晶态.随着氮氩流量比的增加,薄膜硬度呈现先增加后减小的趋势;当氮氩流量比为1∶1时,TiN薄膜以(200)晶面择优取向结晶,组织致密均匀,晶粒尺寸最小,具有最大的硬度值(825 HV),相比未镀膜的玻璃基片,硬度值增加了20.44％.
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| 关 键 词： | 磁控溅射 玻璃基TiN薄膜 硬度 氮氩流量比 |
Effects of N2/Ar Flow Ratio on Structure and Hardness of TiN Thin Films Deposited on Glass Substrates |
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| GU Bao-bao,ZHAO Qing-nan,LIU Xu,LUO Le-ping,CONG Fang-ling,ZHAO Xiu-jian.Effects of N2/Ar Flow Ratio on Structure and Hardness of TiN Thin Films Deposited on Glass Substrates[J].Bulletin of the Chinese Ceramic Society,2016,35(12):4076-4081. |
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| Authors: | GU Bao-bao ZHAO Qing-nan LIU Xu LUO Le-ping CONG Fang-ling ZHAO Xiu-jian |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | magnetron sputtering TiN films deposited the glass substrate hardness flow ratio of N2/Ar |
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