| 基于湿法刻蚀的MEMS压印模版制作 |
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| 引用本文： | 王权岱,段玉岗,卢秉恒,丁玉成.基于湿法刻蚀的MEMS压印模版制作[J].微细加工技术,2006(1):36-40,60. |
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| 作者姓名： | 王权岱 段玉岗 卢秉恒 丁玉成 |
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| 作者单位： | 西安交通大学,机械制造系统工程国家重点实验室,西安,710049 |
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| 摘 要： | 介绍了一种基于玻璃湿法刻蚀低成本的MEMS压印模版制作工艺,工艺中以单层光刻胶作为刻蚀掩模,重点研究了改善刻蚀图形几何轮廓和提高表面质量的方法。在对钻蚀形成机理进行分析的基础上,通过对比偶联剂不同涂敷方式及不同蒸镀时间对刻蚀结果的影响,优化了硅烷偶联剂的涂敷工艺,使钻蚀率降低到0.6,图形几何形状得到改善。分析了刻蚀生成物的溶解度,采用HCl作为刻蚀液添加剂对刻蚀产生的难溶物进行分解,提高了表面质量。对刻蚀表面缺陷的形成原因进行了分析,采用厚胶层工艺消除了表面缺陷。利用该工艺制作了图形特征尺寸为100μm的MEMS压印模版,并进行了初步压印实验,得到了很高的复型精度。
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| 关 键 词： | 压印模版 玻璃 湿法刻蚀 |
| 文章编号： | 1003-8213(2006)01-0036-05 |
| 修稿时间： | 2005年9月21日 |
Imprint Template Fabrication Method for MEMS Based on Wet Etching |
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| WANG Quan-dai,DUAN Yu-gang,LU Bing-heng,DING Yu-cheng.Imprint Template Fabrication Method for MEMS Based on Wet Etching[J].Microfabrication Technology,2006(1):36-40,60. |
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| Authors: | WANG Quan-dai DUAN Yu-gang LU Bing-heng DING Yu-cheng |
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| Keywords: | MEMS |
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