环境气体对激光烧蚀制备纳米Si晶粒平均尺寸的影响 |
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作者姓名: | 王英龙 张恒生 褚立志 丁学成 傅广生 |
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作者单位: | 河北大学,物理科学与技术学院,河北,保定,071002 |
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基金项目: | 国家自然科学基金,河北省自然科学基金,河北省教育厅自然科学基金 |
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摘 要: | 采用脉冲激光烧蚀装置,在不同环境气体下,沉积制备了含有纳米Si晶粒的薄膜.利用扫描电子显微镜(SEM)观察样品的表面形貌,并对晶粒尺寸进行统计分析,发现不同环境气体下,纳米Si晶粒平均尺寸均随衬底与靶的距离增加有着先增大后减小的规律;通过分析比较,同等条件下Ne气环境下制备的纳米Si晶粒平均尺寸最小.
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关 键 词: | 脉冲激光烧蚀 纳米Si晶粒 平均尺寸 环境气体 |
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