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单晶氮化硅(α-Si3N4)纳米线的制备及其光学性能
引用本文:解挺,吴玉程,张立德.单晶氮化硅(α-Si3N4)纳米线的制备及其光学性能[J].功能材料,2004,35(Z1):3027-3029.
作者姓名:解挺  吴玉程  张立德
作者单位:1. 合肥工业大学,摩擦学研究所,安徽,合肥,230009;中国科学院固体物理研究所,安徽,合肥,230031
2. 合肥工业大学,材料科学与工程学院,安徽,合肥,230009;中国科学院固体物理研究所,安徽,合肥,230031
3. 中国科学院固体物理研究所,安徽,合肥,230031
基金项目:国家重大基础研究"973"资助项目(1999064501)
摘    要:介绍了用一种简单的气相合成方法制备出了大量高纯单晶氮化硅(α-Si3N4)纳米线,所形成的纳米线粗细均匀、表面光滑,直径为30~80nm,其长度可达数百微米.同时讨论了氮化硅纳米线的生长机理,其生长过程中气-固机制起主导作用.荧光测试结果表明,氮化硅纳米线的发光有一个宽的发光带(波长从500~700 nm),发光峰位于567 nm.

关 键 词:氮化硅  纳米线  制备  气-固机制  荧光
文章编号:1001-9731(2004)增刊-3027-03
修稿时间:2004年3月5日

Synthesis and photoluminescence of single-crystalline
XIE Ting,WU Yu-cheng,ZHANG Li-de.Synthesis and photoluminescence of single-crystalline[J].Journal of Functional Materials,2004,35(Z1):3027-3029.
Authors:XIE Ting  WU Yu-cheng  ZHANG Li-de
Abstract:
Keywords:
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