Ni-Cu-P合金化学镀层制备及组织结构的研究 |
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作者姓名: | 于会生 罗守福 王永瑞 |
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作者单位: | 上海交通大学材料科学与工程学院!上海 200030,上海交通大学材料科学与工程学院!上海 200030,上海交通大学材料科学与工程学院!上海 200030 |
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基金项目: | 国家九五科学仪器科技攻关资助 |
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摘 要: | 研究了 Ni- Cu- P化学镀液主要成分、 pH值及时间等工艺参数对化学沉积 Ni- Cu- P合金镀层成分及镀速的影响。通过选择适当的镀液成分及工艺参数,得到了 Cu含量从 0到 56.18wt%的 Ni- Cu- P合金镀层。利用 X射线能谱术 (EDS)和 X射线衍射术 (XRD)研究了镀液中硫酸铜浓度对 Ni- Cu- P合金镀层成分及组织结构的影响。在硫酸铜浓度低于 3g/l时, Ni- Cu- P合金镀层中 P含量高于 7.05wt%,合金镀层是非晶态结构。
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关 键 词: | 化学沉积 Ni-Cu-P合金 工艺 结构 |
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