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Ni-Cu-P合金化学镀层制备及组织结构的研究
作者姓名:于会生  罗守福  王永瑞
作者单位:上海交通大学材料科学与工程学院!上海 200030,上海交通大学材料科学与工程学院!上海 200030,上海交通大学材料科学与工程学院!上海 200030
基金项目:国家九五科学仪器科技攻关资助
摘    要:研究了 Ni- Cu- P化学镀液主要成分、 pH值及时间等工艺参数对化学沉积 Ni- Cu- P合金镀层成分及镀速的影响。通过选择适当的镀液成分及工艺参数,得到了 Cu含量从 0到 56.18wt%的 Ni- Cu- P合金镀层。利用 X射线能谱术 (EDS)和 X射线衍射术 (XRD)研究了镀液中硫酸铜浓度对 Ni- Cu- P合金镀层成分及组织结构的影响。在硫酸铜浓度低于 3g/l时, Ni- Cu- P合金镀层中 P含量高于 7.05wt%,合金镀层是非晶态结构。

关 键 词:化学沉积  Ni-Cu-P合金  工艺  结构
本文献已被 CNKI 等数据库收录!
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