| 光加热低压金属有机化学气相淀积生长AlGaN |
| |
| 引用本文： | 周玉刚,李卫平,沈波,陈鹏,陈志忠,臧岚,张荣,顾书林,施毅,郑有炓.光加热低压金属有机化学气相淀积生长AlGaN[J].高技术通讯,2000,10(8):34-36. |
| |
| 作者姓名： | 周玉刚 李卫平 沈波 陈鹏 陈志忠 臧岚 张荣 顾书林 施毅 郑有炓 |
| |
| 作者单位： | 南京大学物理系,南京,210093 |
| |
| 基金项目： | 863计划，国家自然科学基金资助项目 |
| |
| 摘 要： | 采用光加热低压金属有机化学气相淀积方法成功地制备出高质量的，组分均匀的AlGaN外延层，结果表明，铝和镓的并入效率基本相等，这有别于其他研究报道，此外，建立了铝相对镓的并入效率与气相预反应之间的关系模型，它表明，光加热对预反应有较大的影响，结合GaN的生长可以看出，光加热有利于抑制预反应，从而有利于提高样品质量和铝组分的均匀性。
|
| 关 键 词： | ALGAN GAN 金属有机化学气相淀积 气相寄生反应 光加热 |
Light Radiation Heating Low Pressure Metal-organic Chemical Vapor Deposition of AlGaN |
| |
| Zhou Yugang,Li Weiping,Shen Bo,Chen Peng,Chen Zhizhong,Zang Lan,Zhang Rong,Gu Shulin,Shi Yi,Zheng Youdou.Light Radiation Heating Low Pressure Metal-organic Chemical Vapor Deposition of AlGaN[J].High Technology Letters,2000,10(8):34-36. |
| |
| Authors: | Zhou Yugang Li Weiping Shen Bo Chen Peng Chen Zhizhong Zang Lan Zhang Rong Gu Shulin Shi Yi Zheng Youdou |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | GaN AlGaN Gas phase parasitic reaction Light radiation heating MOCVD |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
