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MBE生长温度对InGaAs/GaAs应变单量子阱激光器性能的影响
引用本文:曾一平,孔梅影,王晓亮,朱世荣,李灵霄,李晋闽.MBE生长温度对InGaAs/GaAs应变单量子阱激光器性能的影响[J].电子显微学报,1997,16(4):381-384.
作者姓名:曾一平  孔梅影  王晓亮  朱世荣  李灵霄  李晋闽
作者单位:中国科学院半导体研究所
摘    要:采用分子束外延(MBE)技术,研制生长了InGaAs/GaAs应变单量子阱激光器材料,并研究了生长温度及界面停顿生长对激光器性能的影响。结果表明,较高的InGaAs生长温度和尽可能短的生长停顿时间,将有利于降低激光器的阈值电流。所外延的激光器材料在250μm×500μm宽接触、脉冲工作方式下测量的阈电流密度的典型值为160mA/cm2。用湿法腐蚀制作的4μm条宽的脊型波导激光器,阈值电流为16nA,外微分量子效率为04mW/mA,激射波长为976±2nm,线性输出功率为100mW。

关 键 词:应变单量子阱  激光器  MBE生长  外延生长
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