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会聚偏光干涉测量晶体双折射率
引用本文:毛谦敏,沈为民,李卫涛. 会聚偏光干涉测量晶体双折射率[J]. 光电工程, 2006, 33(4): 124-127
作者姓名:毛谦敏  沈为民  李卫涛
作者单位:中国计量学院,光电工程系,浙江,杭州,310018;中国计量学院,光电工程系,浙江,杭州,310018;中国计量学院,光电工程系,浙江,杭州,310018
摘    要:
光轴平行表面的晶片的会聚偏光干涉对晶体的双折射率非常敏感。干涉图的对称中心对应于正入射光线,双折射率正比于此点的干涉级md,md的小数部分主要由中央暗条纹的位置决定,md的整数部分由自洽的办法求出。干涉条纹可以用双曲线很好地拟合,使干涉图特征点的提取更为精确。用不同厚度的铌酸锂晶片作了测量,双折射率不确定度为1×10-4。

关 键 词:晶体光学  折射率测量  会聚偏光干涉  单轴晶体  CCD摄像机
文章编号:1003-501X(2006)04-0124-04
收稿时间:2005-10-11
修稿时间:2006-02-10

Measurement of the crystal birefractive index by conoscopic interference
MAO Qian-min,SHEN Wei-min,LI Wei-tao. Measurement of the crystal birefractive index by conoscopic interference[J]. Opto-Electronic Engineering, 2006, 33(4): 124-127
Authors:MAO Qian-min  SHEN Wei-min  LI Wei-tao
Abstract:
Keywords:Crystal optics  Refractivity measurement  Conoscopic interference  Uniaxial crystal  CCD camera
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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