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| 低电阻ITO透明导电膜的制备和应用 | |
| 作者姓名： | 李云奇 关奎之 |
| 作者单位： | 东北工学院 沈阳110006(李云奇，关奎之，徐成海，王宝霞)，东北工学院 沈阳110006(张世伟) |
| 摘 要： | 锡掺杂的铟锡氧化物透明导电膜（简称膜ＩＴＯ）是一种面电阻率低，透光率高，导电性能好的膜层，近年来在国内外发展较快，其制备方法较多。本文就采用磁控溅射法制备ＩＴＯ 膜的设备及成膜过程中的若干工艺问题进行了探讨。 |
| 关 键 词： | 低电阻 导电膜 磁控溅射 镀膜 |
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