| 直流电弧等离子体球化U3Si2粉体 |
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| 引用本文： | 孔常静,宁伟建,吴彬,纪崇甲.直流电弧等离子体球化U3Si2粉体[J].中国粉体技术,2000,6(4):44-46. |
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| 作者姓名： | 孔常静 宁伟建 吴彬 纪崇甲 |
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| 作者单位： | 中国科学院力学研究所,北京,100081 |
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| 摘 要： | 研制了直流电弧等离子体球化U3Si2粉体装置,因Ar He气氛下对粒度为10－150μm范围内不规则形状的U3Si2粉体进行了球化，球化率达90％。
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| 关 键 词： | U3Si2粉体 等离子体 直流电弧 球化工艺 球状粉体 |
| 修稿时间： | 1999-11-22 |
U3Si2 Powder Sphericized by Direct Current Plasma |
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| KONG Chang-Jing,NING Wei-jian,WU Bin,JI Chong-Jia.U3Si2 Powder Sphericized by Direct Current Plasma[J].China Powder Science and Technology,2000,6(4):44-46. |
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| Authors: | KONG Chang-Jing NING Wei-jian WU Bin JI Chong-Jia |
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