| 直流电弧等离子体球化U3Si2粉体 |
| |
| 引用本文： | 孔常静,宁伟建,吴彬,纪崇甲. 直流电弧等离子体球化U3Si2粉体[J]. 中国粉体技术, 2000, 6(4): 44-46 |
| |
| 作者姓名： | 孔常静 宁伟建 吴彬 纪崇甲 |
| |
| 作者单位： | 中国科学院力学研究所,北京,100081 |
| |
| 摘 要： | 研制了直流电弧等离子体球化U3Si2粉体装置,因Ar He气氛下对粒度为10－150μm范围内不规则形状的U3Si2粉体进行了球化,球化率达90％。
|
| 关 键 词： | U3Si2粉体 等离子体 直流电弧 球化工艺 球状粉体 |
| 修稿时间： | 1999-11-22 |
U3Si2 Powder Sphericized by Direct Current Plasma |
| |
| KONG Chang-Jing,NING Wei-jian,WU Bin,JI Chong-Jia. U3Si2 Powder Sphericized by Direct Current Plasma[J]. China Powder Science and Technology, 2000, 6(4): 44-46 |
| |
| Authors: | KONG Chang-Jing NING Wei-jian WU Bin JI Chong-Jia |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
