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| 偏压对多弧离子镀TiN膜层的影响 | |
| 引用本文： | 辛煜,薛青.偏压对多弧离子镀TiN膜层的影响[J].表面技术,1997,26(1):8-10. |
| 作者姓名： | 辛煜 薛青 |
| 作者单位： | [1]苏州大学薄膜材料实验室 [2]苏州大学测试中心 |
| 摘 要： | 主要运用多弧离子镀技术研究了偏压对不锈钢基片上镀制的ＴｉＮ膜层的影响，运用扫描电子显微镜，Ｘ－射线衍射仪和附着力测定仪研究了膜表面的钛滴，针也，膜的的取向和临界载荷等性能。结果表明：低偏压下膜表面的针孔密度较小，高偏压下钛滴趋于细化。划痕试验表明：在１５０－２００Ｖ偏压下膜层的临界载荷最佳。 |
| 关 键 词： | 多弧离子镀 喷镀 氮化钛 离子镀 镀膜 偏压 |
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