| L波段350W AlGaN/GaN HEMT器件研制 |
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| 引用本文： | 张力江,默江辉,崔玉兴,付兴昌,李献杰,张彤.L波段350W AlGaN/GaN HEMT器件研制[J].半导体技术,2018,43(6):437-442. |
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| 作者姓名： | 张力江 默江辉 崔玉兴 付兴昌 李献杰 张彤 |
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| 作者单位： | 东南大学电子科学与技术学院,南京 210096;中国电子科技集团公司第十三研究所,石家庄 050051;专用集成电路重点实验室,石家庄,050051;中国电子科技集团公司第十三研究所,石家庄,050051;东南大学电子科学与技术学院,南京,210096 |
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| 基金项目： | 国家重点研发计划资助项目(2016YFB0400303) |
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| 摘 要： | 基于高纯半绝缘碳化硅衬底,采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)工艺生长了AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)外延材料.室温下霍尔测试结果表明,外延层二维电子气迁移率为1 950cm2/ (V·s),方块电阻为350 Ω,电阻均匀性为3％.通过优化工艺降低了欧姆接触电阻,提高了器件工作效率.采用源场板结合栅场板的双场板技术和增大源漏间距,提高了器件击穿电压.优化了背面减薄和背面通孔技术,提高了器件散热能力.采用阻抗匹配技术提升了芯片阻抗.最终采用预匹配技术和金属陶瓷封装技术成功制作50 mm栅宽的AlGaN/GaNHEMT器件.直流测试结果表明,器件击穿电压高达175 V.微波测试结果表明,在50 V工作电压、1.3 GHz下,器件输出功率达350 W,功率附加效率达81％,功率增益大于13 dB.
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| 关 键 词： | AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT) L波段 大功率 高效率 场板 |
Research and Fabrication of L-Band 350 W AlGaN/GaN HEMT |
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| Zhang Lijiang,Mo Jianghui,Cui Yuxing,Fu Xingchang,Li Xianjie,Zhang Tong.Research and Fabrication of L-Band 350 W AlGaN/GaN HEMT[J].Semiconductor Technology,2018,43(6):437-442. |
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| Authors: | Zhang Lijiang Mo Jianghui Cui Yuxing Fu Xingchang Li Xianjie Zhang Tong |
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