| 磁粒研磨TC4孔棱边毛刺的机理及试验研究 |
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| 引用本文： | 焦安源,张龙龙,陈燕,刘新龙.磁粒研磨TC4孔棱边毛刺的机理及试验研究[J].表面技术,2019,48(3):283-290. |
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| 作者姓名： | 焦安源 张龙龙 陈燕 刘新龙 |
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| 作者单位： | 辽宁科技大学,辽宁 鞍山,114051;辽宁科技大学,辽宁 鞍山,114051;辽宁科技大学,辽宁 鞍山,114051;辽宁科技大学,辽宁 鞍山,114051 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金（51775258，51105187），辽宁省教育厅基金项目（2016HZPY10） |
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| 摘 要： | 目的探究磁粒研磨法去除TC4孔棱边毛刺的机理,寻求去除TC4孔棱边毛刺的最佳工艺方案。方法分别对磁极单轨迹运动、磁极复合轨迹运动下磁粒研磨去除孔棱边毛刺的基本原理进行分析,分别利用ANSOFT和ANSYS软件对孔棱边处的磁场强度和切削力进行模拟分析。通过磁粒研磨法对孔棱边毛刺进行研磨去除试验,利用超景深3D显微镜测取孔棱边毛刺的微观形貌以及毛刺的高度。结果磁极为单轨迹运动时,磁极自转转速为2000 r/min,研磨加工15 min后,TC4孔棱边的毛刺高度由原始的60μm左右降至5μm左右。磁极为复合轨迹运动时,磁极自转转速为2000 r/min,磁极公转速度为30 r/min,加工时间为12 min,TC4孔棱边的毛刺已经完全去除,且孔表面微观形貌较好。结论当磁极为复合轨迹运动时,相对于传统的磁极单轨迹运动,孔棱边毛刺的去除效率进一步提高,TC4孔表面微观形貌得到极大改善。
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| 关 键 词： | 磁粒研磨 复合轨迹运动 TC4 毛刺 毛刺高度 表面形貌 |
| 收稿时间： | 2018/7/2 0:00:00 |
| 修稿时间： | 2019/3/20 0:00:00 |
Mechanism and Experimental Study of TC4 Hole Burr by Magnetic Particle Grinding |
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| JIAO An-yuan,ZHANG Long-long,CHEN Yan and LIU Xin-long.Mechanism and Experimental Study of TC4 Hole Burr by Magnetic Particle Grinding[J].Surface Technology,2019,48(3):283-290. |
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| Authors: | JIAO An-yuan ZHANG Long-long CHEN Yan and LIU Xin-long |
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| Affiliation: | University of Science and Technology Liaoning, Anshan 114051, China,University of Science and Technology Liaoning, Anshan 114051, China,University of Science and Technology Liaoning, Anshan 114051, China and University of Science and Technology Liaoning, Anshan 114051, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | magnetic particle grinding compound track motion TC4 burr burr height surface topography |
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