| TA2工业纯Ti微弧氧化陶瓷膜生长规律及电容效应 |
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| 引用本文： | 王宏元,朱瑞富,王志刚,吕宇鹏,肖桂勇,朱先俊.TA2工业纯Ti微弧氧化陶瓷膜生长规律及电容效应[J].功能材料,2012,43(20):2763-2766. |
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| 作者姓名： | 王宏元 朱瑞富 王志刚 吕宇鹏 肖桂勇 朱先俊 |
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| 作者单位： | 1. 山东大学材料液固结构演变与加工教育部重点实验室,山东济南250061 山东大学材料科学与工程学院,山东济南250061
2. 山东建筑大学材料科学与工程学院,山东济南,250101 |
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| 基金项目： | 山东省自然科学基金资助项目 |
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| 摘 要： | 对TA2工业纯Ti微弧氧化陶瓷膜的生长规律进行了实验研究,分析了陶瓷膜表面形貌、厚度、相结构等不同生长阶段的实验现象及结果。模拟微弧氧化工艺反应过程,运用多种理论建立并分析了氧化陶瓷膜生长模型及等效电路。模型及电路分析结果证明,陶瓷膜在形成时呈现先离散分布后连接成片的生长特点,成膜后TiO2陶瓷膜具有交流耦合电容效应。模型及等效电路分析与实验结果是吻合的,为改善TA2工业纯Ti微弧氧化工艺并提高陶瓷膜性能提供了实验与理论基础。
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| 关 键 词： | 工业纯Ti 微弧氧化 陶瓷膜 生长规律 电容效应 |
Growth rules and capacitor effect of pure titanium TA2 ceramic coating in microarc oxidation |
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| WANG Hong-yuan,ZHU Rui-fu,WANG Zhi-gang,LV Yu-peng,XIAO Gui-yong,ZHU Xian-jun.Growth rules and capacitor effect of pure titanium TA2 ceramic coating in microarc oxidation[J].Journal of Functional Materials,2012,43(20):2763-2766. |
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| Authors: | WANG Hong-yuan ZHU Rui-fu WANG Zhi-gang LV Yu-peng XIAO Gui-yong ZHU Xian-jun |
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| Affiliation: | 1,2 (1.Key Laboratory for Liquid-Solid Structural Evolution and Processing of Materials Ministry of Education, Shandong University,Ji’nan 250061,China; 2.School of Materials Science and Engineering,Shandong University,Ji’nan 250061,China; 3.School of Materials Science and Engineering,Shandong Architecture University,Ji’nan 250101,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | pure titanium microarc oxidation ceramic coating growth rules capacitor effect |
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