有机玻璃曲面的柔性抛光机理与试验 |
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作者姓名: | 赵吉宾 尹东 |
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作者单位: | 1.中国科学院沈阳自动化研究所 装备制造技术研究室,辽宁 沈阳,110016;2.东北大学 机械工程与自动化学院,辽宁 沈阳,110819 |
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基金项目: | 国家自然科学基金资助项目(No.51375476)() |
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摘 要: | 为了提高有机玻璃的表面精度,基于机器人自动化研抛方法,建立了研磨抛光过程的材料去除模型。首先,运用有限元方法,分析研究了柔性抛光盘与工件接触区域内的压力分布,基于普林斯顿材料去除理论,建立了柔性抛光盘沿规划轨迹进给时材料去除模型。通过仿真,分析了研抛压力,抛光盘旋转速度,进给速度对材料去除率的影响规律。然后,研究了扫描路径下轨迹间距对材料去除均匀性的影响规律,得到了最优的轨迹间距。最后,对有机玻璃进行研磨抛光试验,验证了材料去除模型的正确性。试验结果表明:选取合理的加工参数,运用最优的轨迹间距,可以获得无光学缺陷,表面粗糙度达Ra=0.01μm的高精度透明件。利用材料去除理论模型可以指导实际曲面研磨抛光加工过程。
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关 键 词: | 有机玻璃 曲面研抛 柔性抛光盘 表面材料去除 轨迹间距 |
收稿时间: | 2016-05-10 |
修稿时间: | 2016-06-15 |
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