| 负热膨胀ZrW2O8薄膜的制备和性能 |
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| 引用本文： | 刘红飞,程晓农,张志萍,付廷波. 负热膨胀ZrW2O8薄膜的制备和性能[J]. 材料研究学报, 2008, 22(1): 83-86 |
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| 作者姓名： | 刘红飞 程晓农 张志萍 付廷波 |
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| 作者单位： | 江苏大学材料科学与工程学院,镇江,212013 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金 , 江苏省高校自然科学重大基础研究项目 , 江苏大学博士创新基金 |
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| 摘 要： | ![]()
用交替射频磁控溅射法在石英基片上沉积并退火制备了ZrW2O8薄膜,测量了薄膜与基片之间的结合力和薄膜厚度,研究了薄膜的负热膨胀特性.结果表明:用磁控溅射方法制备的薄膜为非晶态,表面平滑、呈颗粒状,在1200℃热处理3 min后得到立方相ZrW2O8薄膜,结晶薄膜的颗粒长大,薄膜与基片之间有良好的结合力.立方相ZrW2O8薄膜在15-200℃热膨胀系数为-24.81×10-6K-1,200-700℃热膨胀系数为-4.78×10-6K-1,平均热膨胀系数为-10.08×10-6K-1.
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| 关 键 词： | 无机非金属材料 钨酸锆 薄膜 磁控溅射 负热膨胀 负热膨胀 结晶薄膜 制备和性能 thin films properties negative thermal expansion 平均热膨胀系数 粒长 立方相 热处理 颗粒状 表面平滑 非晶态 法制 磁控溅射法 结果 热膨胀特性 研究 薄膜厚度 结合力 |
| 文章编号： | 1005-3093(2008)01-0083-04 |
| 修稿时间： | 2007-04-20 |
Preparation and negative thermal expansion properties of ZrW2O8 thin films |
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| LIU Hongfei,CHENG Xiaonong,ZHANG Zhiping,FU Tingbo. Preparation and negative thermal expansion properties of ZrW2O8 thin films[J]. Chinese Journal of Materials Research, 2008, 22(1): 83-86 |
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| Authors: | LIU Hongfei CHENG Xiaonong ZHANG Zhiping FU Tingbo |
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| Abstract: | ![]()
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