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| 硅中注入硼的扩散 | |
| 引用本文： | 孔凡志,文勇军,廖家欣,唐贵平.硅中注入硼的扩散[J].电力科学与技术学报,2003,18(2):83-86. |
| 作者姓名： | 孔凡志 文勇军 廖家欣 唐贵平 |
| 作者单位： | 长沙电力学院,物理与信息工程系,湖南,长沙,410077 |
| 摘 要： | 硼是半导体材料中最主要的杂质,而精确控制杂质浓度剖面是半导体工的扩散从理论与实验的结合方面进行了系统的讨论. |
| 关 键 词： | 扩散 快速热退火 辐射损伤 Fair理论 |
| 文章编号： | 1006-7140(2003)02-0083-04 |
| 修稿时间： | 2003年4月16日 |
Diffusion by Boron Implantation into Silicon |
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