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| 微细加工工艺的现状及未来 | |
| 引用本文： | 难波进,王乐英.微细加工工艺的现状及未来[J].光电子技术,1981(3). |
| 作者姓名： | 难波进 王乐英 |
| 摘 要： | 近年来超大规模集成电路工艺技术的进步是惊人的,其中一部分成果发表在日本电子材料杂志1981年3月号专集上。现已研制成功2微米线对64 K的器件,并首次发表了利用电子束直接描绘出1微米线对256K和512K的器件,人们认为按这种趋势发展下去,发表1M的器件也为期不远了。前不久日本理化研究所举办了第12次“离子注入和亚微米加工”讨论会,来自全国的200多名研究者和技术人员会集在一起进行了热烈的研究和讨论,讨论的中心是有关超大规 |
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