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降低VCSELs激射阈值途径的理论研究
引用本文:张晓霞,潘炜,等.降低VCSELs激射阈值途径的理论研究[J].光电子.激光,2002,13(12):1211-1214.
作者姓名:张晓霞  潘炜
作者单位:1. 电子科技大学光电信息学院,光纤通信国家重点实验,四川,成都,610054
2. 西南交通大学计算机与通信工程学院,四川,成都,610031
3. 四川大学电子信息学院,四川,成都,610064
基金项目:国家自然科学基金资助项目 (10 1740 5 7),国防科技预研跨行业基金资助项目 (5 410 2 0 40 2 0 1DZ0 2 0 2 )
摘    要:针对量子阱有源层的结构特点,考虑增益和载流子浓度呈对数关系,建立量子陆垂直腔面发射半导体激光器(VCSEL)的速率方程,导出了阈值电流密度的解析表达式,运用MATLAB软件中Simulink可视化仿真系统对理论计算进行模拟仿真,研究了降低VCSEL激射阈值的3个基本途径;有源层选用量子阱实现微腔结构,腔面采取多层介质反射膜提高光腔反射率R:改进外延生长技术在降低各种损耗。

关 键 词:VCSELs  阈值电流密度  垂直腔面发射半导体激光器  有源区厚度  腔长  端面反射率  量子阱
文章编号:1005-0086(2002)12-1211-04
修稿时间:2002年2月14日

Study on Decreasing Threshold Current Density of VCSELs
ZHANG Xiao xi,PAN Wei,LIU Yong zhi,CHEN Jian guo.Study on Decreasing Threshold Current Density of VCSELs[J].Journal of Optoelectronics·laser,2002,13(12):1211-1214.
Authors:ZHANG Xiao xi  PAN Wei  LIU Yong zhi  CHEN Jian guo
Affiliation:ZHANG Xiao xia 1,PAN Wei 2,LIU Yong zhi 1,CHEN Jian guo 3
Abstract:
Keywords:Threshold current density  Thickness of the active layer  Cavity length  Surface reflectivity
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