| ZrO2膜中的应力 |
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| 引用本文： | 夏风,钱晓良,刘光葵,孙尧卿.ZrO2膜中的应力[J].中国陶瓷,2000,36(2):1-3. |
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| 作者姓名： | 夏风 钱晓良 刘光葵 孙尧卿 |
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| 作者单位： | 华中理工大学材料科学及工程学院,武汉,430074 |
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| 摘 要： | 用射频溅射制备了ZrO
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| 关 键 词： | 薄膜 基片 应力 二氧化锆 电解质 陶瓷 |
| 文章编号： | 1001-9642(2000)02-0001-03 |
| 修稿时间： | 1999-12-28 |
STRESS IN ZrO2 FILMS |
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| XIA Feng,QIAN Xiao-liang,LIU Guang-kui,SUN Yao-qing.STRESS IN ZrO2 FILMS[J].China Ceramics,2000,36(2):1-3. |
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| Authors: | XIA Feng QIAN Xiao-liang LIU Guang-kui SUN Yao-qing |
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| Affiliation: | XIA Feng ,QIAN Xiao-liang ,LIU
Guang-kui ,SUN Yao-qing ;
(Departmem of Material Science and Engineering,Huazhong University of Science and
Technology,Wuhan 430074,China 430074)) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ZrO2 |
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