退火温度对Mn-Co-Ni-O系NTC薄膜阻温特性的影响 |
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引用本文: | 李章恒,杨传仁,张继华,陈宏伟,赵强.退火温度对Mn-Co-Ni-O系NTC薄膜阻温特性的影响[J].微纳电子技术,2012(11):762-766. |
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作者姓名: | 李章恒 杨传仁 张继华 陈宏伟 赵强 |
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作者单位: | 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 |
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基金项目: | 广东省产学研重大项目(2009A090100003) |
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摘 要: | 采用传统陶瓷工艺制作溅射靶材,通过射频磁控溅射法在Al2O3基片上制备了Mn-Co-Ni-O系NTC薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)对不同退火温度下制备的NTC薄膜的结构和形貌进行表征。经过蒸发电极、内电极图形化、淀积二氧化硅钝化层等工艺,将薄膜制成0805规格NTC热敏电阻器。利用高低温试验箱等测试系统对其性能进行测试,研究了退火温度对薄膜阻温特性的影响。结果表明,随着退火温度的升高,晶粒逐渐长大,当退火温度为950℃时,晶粒大小均匀,成相平整致密;材料常数B随着退火温度的升高而增大。
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关 键 词: | 负温度系数(NTC)热敏电阻 薄膜 射频磁控溅射 陶瓷靶材 退火温度 X射线衍射仪(XRD) 原子力显微镜(AFM) |
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