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| 真空炉低温区炉温均匀性探讨 | |
| 引用本文： | 张善庆,孙强.真空炉低温区炉温均匀性探讨[J].金属热处理,1997(3):46-46,48. |
| 作者姓名： | 张善庆 孙强 |
| 作者单位： | [1]北京航空材料研究院 [2]北京华翔机电技术联合公司 |
| 摘 要： | 真空炉低温区炉温均匀性探讨北京航空材料研究院（北京１０００９５）张善庆刘忠秋莫卫红北京华翔机电技术联合公司孙强１前言一般真空炉都在高于５００℃使用，主要用于淬火或高温回火。如何扩大真空炉的使用范围，使其能在低温下使用是真空热处理界非常关注的一个问题。... |
| 关 键 词： | 热处理 真空炉 炉温 均匀性 |
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