| 等离子体化学气相沉积的布气装置之设计 |
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| 引用本文： | 黄绍江,谢红希,侯惠君,戴达煌. 等离子体化学气相沉积的布气装置之设计[J]. 材料研究与应用, 2002, 12(1): 21-25 |
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| 作者姓名： | 黄绍江 谢红希 侯惠君 戴达煌 |
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| 作者单位： | 广州有色金属研究院材料表面工程技术研究开发中心,广东,广州,510651;广州有色金属研究院材料表面工程技术研究开发中心,广东,广州,510651;广州有色金属研究院材料表面工程技术研究开发中心,广东,广州,510651;广州有色金属研究院材料表面工程技术研究开发中心,广东,广州,510651 |
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| 摘 要： | 推导了在设计真空镀膜设备时,计算镀膜室内布气管的直径和出气孔孔径的公式,di=[d-41-D-4L∑im=2(n+1-m)/(h+10-6Bq)]-1/4,以达到均匀布气的目的.给出了在等离子体化学气相沉积设备中的计算实例及应用情况,实践证明,用此公式设计真空镀膜均匀布气装置是可行的.
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| 关 键 词： | 真空沉积 结构设计 流量分布 管道流动 |
| 文章编号： | 1003-7837(2002)01-0021-05 |
| 修稿时间： | 2001-09-05 |
Design of gas distributor on plasma chemical vapour deposition |
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