等离子清洗处理胶转移污染的工艺研究

航空制造业蒙皮口盖使用铝合金制造,口盖压合部位则采用丁腈橡胶硫化工艺制造胶圈,以增强其密封性能。橡胶硫化后常常会溢出多余的胶料,污染待涂装表面,降低涂装后涂层的附着力,导致涂层脱落,常规清洗方式无法清除这一弊端,影响口盖的正常使用。通过等离子清洗方式处理,可有效地去除胶转移污染。达到清理、活化的目的,使待涂装表面获得最佳状态。叙述了采用等离子清洗处理口盖制件胶转移污染的研究过程,对比溶剂清洗效果,通过水接触角测量仪初步测试清洗质量,并用划格干胶带法测试涂层的最终附着力。结果表明等离子清洗可以改善胶转移污染制件的涂层附着力,处理后制件的涂层质量满足使用要求。