| 非平衡磁控溅射DLC薄膜应力研究 |
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| 引用本文： | 杭凌侠,Y.YIN,徐均琪,李建超. 非平衡磁控溅射DLC薄膜应力研究[J]. 光电工程, 2005, 32(10): 1-5,26 |
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| 作者姓名： | 杭凌侠 Y.YIN 徐均琪 李建超 |
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| 作者单位： | 西安工业学院,陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室,陕西,西安,710032;悉尼大学 物理系,悉尼,新南威尔士,2006,澳大利亚;悉尼大学 物理系,悉尼,新南威尔士,2006,澳大利亚;西安工业学院,陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室,陕西,西安,710032 |
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| 基金项目： | 国家留学基金;国家总装预研基金 |
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| 摘 要： | ![]()
类金刚石（DLC）薄膜可用作红外增透保护膜，高的薄膜残余应力造成薄膜附着力下降是目前应用中存在的主要问题之一。本文从DLC薄膜作为红外增透保护膜的需求出发，采用非平衡磁控溅射技术生长DLC薄膜。实测了薄膜的残余应力，分析研究了薄膜残余应力在不同工艺条件下的变化情况。探讨了薄膜残余应力与薄膜厚度、光学透过率、离子能量、沉积速率以及能流密度之间的关系。研究结果表明，薄膜残余应力平衡值在0．9～2．2GPa之间，相应的单面镀膜样片的透过率在4μm波长处为69％～63％，随工艺的不同而变化。工艺优化后薄膜残余应力显著下降。硅基底上薄膜与基底剥离的力的临界值大于2160GPa．nm，最大薄膜厚度≥2400nm；锗基底上最大薄膜厚度≥2000nm，可以满足整个红外波段的需求。
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| 关 键 词： | 应力 类金刚石薄膜 非平衡磁控溅射 红外增透保护膜 |
| 文章编号： | 1003-501X（2005）10-0001-05 |
| 收稿时间： | 2004-10-26 |
| 修稿时间： | 2004-10-262005-08-10 |
Study of DLC films residual stress by unbalanced magnetron sputtering technology |
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| HANG Ling-xia,Y.YIN,XU Jun-qi,LI Jian-chao. Study of DLC films residual stress by unbalanced magnetron sputtering technology[J]. Opto-Electronic Engineering, 2005, 32(10): 1-5,26 |
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| Authors: | HANG Ling-xia Y.YIN XU Jun-qi LI Jian-chao |
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| Abstract: | ![]()
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| Keywords: | Stress DLC film Unbalanced magnetron sputtering Infrared antireflection |
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