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| 复合镀膜磁介质研究是磁记录的重要前沿方向 | |
| 引用本文： | 潘国宏,孙允希,王勤堂,蔡一坤,孙玉秀,阮慎康,张晓萍,汪裕华.复合镀膜磁介质研究是磁记录的重要前沿方向[J].信息记录材料,1995(3). |
| 作者姓名： | 潘国宏 孙允希 王勤堂 蔡一坤 孙玉秀 阮慎康 张晓萍 汪裕华 |
| 作者单位： | 北京大学 |
| 摘 要： | 近年国外磁记录密度有惊人发展。IBM1]和日立2]先后分别超过1和2Gbpi2，都远超过光盘密度3]。在多种技术改进中最基本的是磁介质。IBM用Cr＼CoCrPt＼C，日立用Cr＼CoCrPtsi＼CoCrPt＼C，都是复合镀膜磁介质。本文主要从复合镀膜介质微、磁结构和复合镀膜磁介质新材料这两个重要前沿研究方面来说明它们是复合镀膜磁介质研究的，也是磁记录的当前两个极重要的前沿方向 |
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