提高微米金刚石聚晶薄膜的场发射点密度研究 |
| |
引用本文: | 高金海,崔颖琦,张 洁,李成刚,张兵临.提高微米金刚石聚晶薄膜的场发射点密度研究[J].电子器件,2021,44(6):1381-1384. |
| |
作者姓名: | 高金海 崔颖琦 张 洁 李成刚 张兵临 |
| |
作者单位: | 郑州师范学院物理与电子工程学院;郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室 |
| |
摘 要: | 本文是利用微波等离子化学气相沉积的方法,制备出微米金刚石聚晶颗粒薄膜,通过扫描电镜、拉曼光谱、X射线实验,分析了薄膜的形貌与结构,用场发射二级结构研究薄膜的场发射性能。研究了微米金刚石聚晶薄膜的产生的机理,调整制备过程中的参数来增加聚晶颗粒的密度,提高场发射点的密度,为制备大面积、均匀的场发射阴极打下基础。
|
关 键 词: | 微波等离子体化学气相沉积 微米金刚石聚晶薄膜 场发射 |
|
| 点击此处可从《电子器件》浏览原始摘要信息 |
|
点击此处可从《电子器件》下载全文 |
|