紫外写入光纤光栅用亚μm相位掩模板制作误差容限分析

本文采用电磁波标量衍射理论研究了紫外写入光纤光栅用亚μｍ相位掩模的近场衍射特性,并据此得出了零级衍射抑制的条件,２数值模拟方法研究了相位掩模制作误差对有衍射抑制的影响,分析表明,为使零级衍射效率小于５％,相位掩模的刻槽深度和占空比制作误差必须控制在／△ｈ／〈３８ｎｍ和／△ｆ／〈０．１１的范围内。