| 多晶硅太阳电池表面化学织构工艺 |
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| 引用本文： | 赵百川,孟凡英,崔容强.多晶硅太阳电池表面化学织构工艺[J].太阳能学报,2002,23(6):759-762. |
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| 作者姓名： | 赵百川 孟凡英 崔容强 |
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| 作者单位： | 上海交通大学物理系太阳能研究所,上海,200240 |
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| 摘 要： | 用化学腐蚀方法织构多晶硅片的表面，利用SEM分析了化学腐蚀后多晶硅片表面状态，通过反射谱的测试，分析了多晶硅片表面陷光效果。结果表明酸溶液腐蚀的硅片表面相对平整，有均匀的腐蚀坑，反射率很小。在没有任何减反射膜的情况下，在500-1000nm波长范围内，反射率在16％以下，有较好的表面陷光效果。而用碱溶液和双纪念品构腐蚀方法得到的多晶硅表面陷光作用都不很理想，反射率高于酸溶液腐蚀硅片，腐蚀后的硅片表面状态也不利于扩散和丝网印刷工艺。
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| 关 键 词： | 织构工艺 表面织构 化学腐蚀 多晶硅 太阳能电池 |
| 文章编号： | 0254-0096(2002)06-0759-04 |
| 修稿时间： | 2001年11月5日 |
INVESTIGATION OF SURFACE TEXTURE BY CHEMICAL METHOD ON POLYSILICON SOLAR CELLS |
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| Zhao Baichuan,Meng Fanying,Cui Rongqiang.INVESTIGATION OF SURFACE TEXTURE BY CHEMICAL METHOD ON POLYSILICON SOLAR CELLS[J].Acta Energiae Solaris Sinica,2002,23(6):759-762. |
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| Authors: | Zhao Baichuan Meng Fanying Cui Rongqiang |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | surface texturing chemical etching polycrystalline silicon solar cell |
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