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纳米粉预处理的CVD金刚石薄膜成核与生长研究
作者姓名:邵乐喜  谢二庆  贺德衍  陈光华  徐康
作者单位:兰州大学物理系;兰州 730000; 北京工业大学应用物理系 北京 100022; 中国科学院化学物理研究所, 兰州 730000
基金项目:国家教委优秀青年教师基金,国家自然科学基金!69676005
摘    要:研究了纳米金刚石粉预处理的光滑硅衬底上CVD金刚石薄膜的成核与生长.通过与研磨处理样品相比较,纳米金刚石的预处理极大地提高了成核密度(可达109/cm2)、成核速度与成膜质量,并能方便地进行成核密度的控制,是一种经济实用、简单有效的预处理方法.

关 键 词:CVD金刚石  成核  衬底预处理  纳米金刚石粉  
收稿时间:1998-01-20
修稿时间:1998-02-27
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