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| 激光化学气相沉积无定形硅的研究 | |
| 引用本文： | 陈钰清,袁加勇,赵方毅.激光化学气相沉积无定形硅的研究[J].量子电子学报,1988(1). |
| 作者姓名： | 陈钰清 袁加勇 赵方毅 |
| 作者单位： | 浙江大学光仪系 (陈钰清，袁加勇)，浙江大学光仪系(赵方毅) |
| 摘 要： | 用激光化学气相沉积方法在微晶玻璃基片上沉积出了无定形硅薄膜。用乌氏干涉仪测得薄膜厚度为微米量级,沉积速率为100埃/分;用扫描电镜拍摄了膜层的形貌照片,测得其线度为40～50埃;用喇曼光谱仪测出其喇曼频移为480cm~(-1),与无定形硅的特征喇曼频移一致。 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |