晶硅良好表面钝化技术及其在n型电池中的应用 |
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引用本文: | 冯泽增,贾锐,窦丙飞,李昊峰,金智,刘新宇.晶硅良好表面钝化技术及其在n型电池中的应用[J].真空科学与技术学报,2015(4):485-494. |
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作者姓名: | 冯泽增 贾锐 窦丙飞 李昊峰 金智 刘新宇 |
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作者单位: | 中国科学院微电子研究所微波器件与集成电路研究室 |
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摘 要: | 优秀的表面钝化已成为高效电池制作的一项关键重要技术,本文对目前晶体硅钝化及其在太阳电池中的应用做了总结与介绍。首先阐述了目前常用的几种钝化薄膜钝化机理与制备方法,分析了各自优缺点及适用场合,并重点讨论了不同钝化膜组成的叠层钝化。随着最近n型高效电池研究的快速发展,介绍了当今几种常见的n型电池结构,对比了不同材料钝化对电池性能影响。最后对未来发展作了总结与展望。虽然目前晶体硅太阳能市场仍以p型硅为主,可以预见,n型电池将是未来高效低成本电池发展的方向。
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关 键 词: | 表面钝化 晶硅电池 n型电池 钝化机理 叠层钝化 |
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