| CVD金刚石工具膜生长特征SEM观察 |
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| 引用本文： | 高巧君,彭晓芙.CVD金刚石工具膜生长特征SEM观察[J].电子器件,1994,17(3):127-130. |
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| 作者姓名： | 高巧君 彭晓芙 |
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| 作者单位： | 北京大学物理系，北京粉末冶金研究所 |
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| 摘 要： | 本文用不热形变栅状直丝化学气相沉积（ＣＶＤ）法生长金刚石膜，在Ｓｉ及ＷＣ－Ｃｏ硬质合金衬底上金刚石膜晶面显露规律随衬底温度和甲烷浓度而异，经适当表面处理及选择合适的工艺条件，当生长初期衬底上就呈现出良好晶形的沉积膜，衬底与膜之间的粘结力能得到提高。Ｒａｍａｎ谱分析表明此膜仅具有特征金刚石１３３２ｃｍ￣（－１）峰，通过ＳＥＭ观察揭示出盒刚石膜可在表面、侧面及棱上生长，并与衬底有良好的联结。
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| 关 键 词： | CVD金刚石 生长机制 半导体薄膜技术 |
A Observation of Growth Characterization of CVD Diamond Tool Films by SEM |
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| Goo Qiao-Jun,Xu Yong-Yong,and Feng Hao.A Observation of Growth Characterization of CVD Diamond Tool Films by SEM[J].Journal of Electron Devices,1994,17(3):127-130. |
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| Authors: | Goo Qiao-Jun Xu Yong-Yong and Feng Hao |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Hot straight filament CVD Growth Mechanism and characterization |
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