|
|||||
|
|
| 退火工艺对CaBi4.3Ti4O15铁电薄膜性能影响 | |
| 引用本文： | 范素华,徐静,王培吉,张丰庆.退火工艺对CaBi4.3Ti4O15铁电薄膜性能影响[J].材料热处理学报,2008,29(2):5-8. |
| 作者姓名： | 范素华 徐静 王培吉 张丰庆 |
| 作者单位： | 1. 山东建筑大学材料科学与工程学院,山东济南,250101 2. 济南大学材料科学与工程学院,山东,济南,250022 3. 济南大学理学院,山东,济南,250022 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金 , 山东教育厅重点项目 |
| 摘 要： | 利用溶胶凝胶法制备了CaBi4.3Ti4O15 铁电薄膜材料,研究表明,退火工艺对CaBi4.3Ti4O15,铁电薄膜的结构、微观形貌、晶粒取向以及铁电性能影响较大,随着退火温度的提高,晶粒的取向为a轴择优取向,有利于样品的铁电性;气氛对薄膜的电学性能影响也较大,氧气气氛可以很好的抑制氧空位的产生,提高样品的铁电性.在氧气气氛下退火所得到样品的剩余极化强度(2P)和矫顽场(2Ec)分别为21.4μC/cm2和27.7kV/mm,介电常数在250±4%范围内,介电损耗在0.005～0.01之间,测试频率为1～1MHz,显示出较好的频率稳定性. |
| 关 键 词： | CaBi4.3 Ti4O15 退火工艺 铁电薄膜 铁电性能 |
| 文章编号： | 1009-6264(2008)02-0005-04 |
| 修稿时间： | 2007年4月23日 |
Effect of annealing process on properties of CaBi4.3Ti4O15 ferroelectric thin films |
|
| FAN Su-hua,XU Jing,WANG Pei-ji,ZHANG Feng-qing.Effect of annealing process on properties of CaBi4.3Ti4O15 ferroelectric thin films[J].Transactions of Materials and Heat Treatment,2008,29(2):5-8. | |
| Authors: | FAN Su-hua XU Jing WANG Pei-ji ZHANG Feng-qing |
| Abstract: | |
| Keywords: | |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ | |