| 微波等离子体制备氮杂二氧化钨钒薄膜 |
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| 引用本文： | 陈金民,黄志良,刘羽,王升高. 微波等离子体制备氮杂二氧化钨钒薄膜[J]. 武汉工程大学学报, 2008, 30(1) |
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| 作者姓名： | 陈金民 黄志良 刘羽 王升高 |
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| 摘 要： | 根据二氧化钒在68℃附近发生相变的这一特性,选用V2O5和W2O3为前驱物,通过在玻璃片上镀膜,采用微波等离子体增强法,合成了氮杂二氧化钨钒(V0.98W0.02O2-xNy)薄膜.通过XRD表征了样品的组成,用自制的仪器测量了合成样品的相变温度,结果表明:样品为氮杂二氧化钨钒(V0.98W0.02O2-xNy),通过氮掺杂能有效降低二氧化钨钒薄膜的相变温度,相变温度最低可以降至35℃.
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| 关 键 词： | 微波等离子体 氮杂V0.98W0.02O2-xNy 相变温度 薄膜 |
V0.98W0.02O2-xNy thin films synthesized by microwave plasma |
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| CHEN Jinmin,HUANG Zhiliang,LIU Yu,WANG Shenggao. V0.98W0.02O2-xNy thin films synthesized by microwave plasma[J]. Journal of Wuhan Institute of Chemical Technology, 2008, 30(1) |
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| Authors: | CHEN Jinmin HUANG Zhiliang LIU Yu WANG Shenggao |
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